반도체 직무훈련 MR콘텐츠

반도체 직무훈련 MR콘텐츠

IMXR® 반도체 직무훈련 MR 콘텐츠



산업 패러다임 변화와 시장 변동에 맞춘 차세대 반도체 맞춤형 교육 환경 개선이 필요합니다. IMXR 직무 훈련 반도체 공정 콘텐츠는 가상 공간에서 시간과 장소의 제약 없이 반도체 장비 공정에 대한 반복적이고 체계적인 직무 훈련을 제공합니다. 반도체 직무훈련 MR콘텐츠는 가상 오브젝트와 현실 환경을 혼합하여  반도체 장비와 공정 절차를 몰입감 있게 상호작용할 수 있도록 합니다. 이를 통해 사용자가 가상의 오브젝트를 현실처럼 조작해 보다 현실감 있고 직관적인 경험을 제공합니다.



주요 기능

  · 실시간 환경 인식 및 고급 렌더링 기능  

실시간 환경 인식과 고급 렌더링 기능을 통해 패스스루 카메라로 주변 환경을 고품질로 렌더링하여 실제와 가상현실을 자연스럽게 융합합니다.

이를 통해 현실감 넘치고 상호작용이 풍부한 몰입 경험을 제공합니다.

 


  · 3D 오브젝트와 상호작용  

현실 환경에서 가상 오브젝트와의 자연스러운 상호작용 가능하여 현실감 있고 직관적인 경험을 제공합니다.

실제 환경 위에 놓여진 가상 장비를 조작함으로 물리적 세계와 디지털 콘텐츠 간의 경계가 사라지는 혁신적인 경험을 체험할 수 있습니다.


  · 실환경 맞춤 라이트환경 적용  

실제 환경과 동일한 라이팅 환경을 구현하여 모델링에 적용하였습니다. Lithography 공정의 경우 옐로우룸에서 진행되는 공정으로 노란 불빛이 모델링에 적용되어 있음을 확인할 수 있습니다. 현실 환경에서 가상 오브젝트와의 자연스러운 상호작용 가능하여 현실감 있고 직관적인 경험을 제공합니다. 실제 환경 위에 놓여진 가상 장비를 조작함으로 물리적 세계와 디지털 콘텐츠 간의 경계가 사라지는 혁신적인 경험을 체험할 수 있습니다.

실제 환경VR환경MR환경


  · 고품질 3D 그래픽 및 애니메이션  

몰입감 있는 MR 경험을 제공하기 위한 고품질 3D 모델링과 애니메이션을 제공합니다. 실제 반도체 장비 사이즈와 동일한 1:1 스케일의 장비 앞에서 공정 절차를 수행하고 절차에 따른 장비 동작을 애니메이션으로 경험할 수 있습니다.

콘텐츠명실제 사진3D 모델링
Lithography 공정

식각공정

RF Sputter 공정



  · 성능 최적화를 통한 안정적인 프레임 유지  

몰입도 높은 사용자 경험을 위해 모바일 환경에 맞춘 최적화를 통해 최소 60 FPS의 안정적인 프레임을 유지합니다. 이를 위해 모델링의 폴리곤 수를 줄이고, LOD(Level of Detail) 적용, 텍스처 해상도 최소화, 그리고 베이크 라이팅으로 텍스처에 조명을 굽는 방식 등을 활용하여 성능을 최적화합니다.


PC 모델링모바일 모델링(반도체 MR에 적용)
  



콘텐츠 구성

NO8대 공정콘텐츠명장비콘텐츠 내용MR 구현
1웨이퍼 제조 공정웨이퍼 제조 공정엣지 그라인더
(Edge Grinder)
웨이퍼 제조 과정을 퀴즈로 학습-
2산화공정----
3포토공정노광공정노광장비포토공정의 노광 공정 오퍼레이션 프로세스를 숙지하여 웨이퍼 노광 작업 절차를 학습-
패턴형상측정장비패턴형상측정기패턴형상 측정 장비를 이용하여 웨이퍼 표면 형상을 관찰 및 검사하는 방법을 학습-
Lithography 공정Mask Aligner
Hot Plate
Spin Coater
Microscope
Spin coater, Hot Plate, Alinger, Microscope을 이용하여 리소그래피 공정 절차 학습O
4식각공정식각공정PCMC플라즈마 공정장치의 운영 방법을 숙지하고, 캐소드 플라즈마를 적용한 코팅공정과 애노드 플라즈마를 적용한 식각 공정을 학습O
Dry Etcher
Shower Head Change
Dry EtcherPE-RIE장비에서 가스불량으로 인한 unifomrity 불량이 발생하여 새로 설계된 shower head로 부품 교체를 실시 후 장비의 이상유무까지 체크하는 유지보수 과정 학습-
5증착 & 이온공정RF Sputter 공정
RF Sputter
RF Sputter 구동 원리와 플라즈마를 통해 박막을 증착시킬 수 있는 공정 과정 학
O
Sputter System
Target Change & Chamber Cleaning
Plasma Sputtering
박막 증착 시스템인 플라즈마 스퍼터링(Plasma Sputtering)공정 장비 운영에 있어 정기적 PM을 Metal Target

Furnace System
Tube Change
SP CVD Furnace박막 증착 시스템인 LP CVD Furnace 공정 장비 운영에 있어서 정기적 PM으로 Tube 분해 조립하는 절차 학습
6금속배선공정----
7EDS 공정반도체 검사기반도체 검사기반도체 검사기를 이용한 반도체 검사 과정 운영 및 정기적 유지보수 절차 학습-
8패키징공정----
9세정 공정플라즈마 세정 장비플라즈마 세정 장비플라즈마를 이용한 반도체 세정 공정 장비 운영에 있어서 작동 방식 및 정기적 유지 보수 절차 학습-
10기타클린룸 사용 및 안전사고 발생 대응
안전보호구 착용, 화학물질 안전관리 방법과 폐시약 폐기를 위한 절차 및 수행 방법-



기술 사양

• 개발 도구 및 언어 : Unreal Engine 5, C++ 및 Blueprint

• 하드웨어 요구사항

장비명Meta Quest3Meta Quest Pro
이미지



콘텐츠 권장 사양 및 스펙